Grand Gateway Shanghai
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Grand Gateway Shanghai | |
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Localizzazione | |
Stato | Cina |
Coordinate | 31°11′47.4″N 121°25′57″E31°11′47.4″N, 121°25′57″E |
Informazioni generali | |
Condizioni | In uso |
Uso | misto |
Piani | 52 |
Realizzazione | |
Architetto | Callison |
Modifica dati su Wikidata · Manuale |
Il Grand Gateway Shanghai (in cinese 港 汇 广场; pinyin Gǎnghuì Guǎngchǎng) è un complesso costituito da due grattacieli gemelli situato nella zona di Xujiahui a Shanghai, in Cina. Progettato dallo studio Callison,[1] gli edifici sono stati completati nel 2005.
Note
- ^ https://books.google.com/books?id=Lcir7wwIzhIC&pg=PA136&lpg=PA136&dq=%22Grand+Gateway%22+Shanghai&source=bl&ots=Mrcvs79904&sig=mtW8VNTlJX0z2liFQaE8nLx8tKM&hl=en&sa=X&ei=jAw0UJGwJYX80QWanYDgBQ&ved=0CDEQuwUwAA#v=onepage&q=%22Grand%20Gateway%22%20Shanghai&f=false
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Collegamenti esterni
- Sito ufficiale, su grandgateway66.com.
- (EN) Grand Gateway Shanghai, su Emporis Building Directory.
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